Kit Filtros Libus BLS 201-3C P3 R – Carbón Activado OV/AG
$54.217 + IVA
Kit Filtros Libus BLS 201-3C P3 R – Partículas y Carbón Activado OV/AG
• Plazo de entrega: a convenir según el producto. Stock sujeto a disponibilidad.
• Compra minima: $120.000
• Compras superiores a $300.000: Envio sin cargo a CABA y GBA o entrega sin cargo hasta el transporte elegido por el cliente.
Protección avanzada contra partículas y vapores
El Kit de Filtros Libus BLS 201-3C P3 R ofrece una protección completa frente a partículas tóxicas, polvo y vapores de gases orgánicos y ácidos (OV/AG). Además, su carbón activado neutraliza olores molestos, brindando un ambiente de trabajo más seguro y confortable.
Instalación rápida y confiable
Con un sistema de conexión bayoneta, este kit permite una instalación rápida y segura en máscaras compatibles. El mecanismo de bloqueo garantiza un ensamblaje correcto, evitando fugas y asegurando la máxima eficacia de filtración.
Diseño ligero y cómodo
Su diseño plano y liviano mejora la comodidad durante el uso prolongado, sin comprometer la eficiencia del filtro. Esto permite a los trabajadores mantener su rendimiento y concentración en entornos exigentes.
Versatilidad y eficacia
Este filtro protege contra partículas, vapores de gases orgánicos y ácidos, así como contra ozono en concentraciones por debajo del TLV (Valor Límite Umbral). Es ideal para entornos industriales donde se requiere una protección integral y confiable.
Preguntas frecuentes (FAQs)
¿Qué nivel de protección ofrece este filtro?
Clase P3 R, diseñado para partículas y aerosoles tóxicos, combinando carbón activado para neutralizar olores y vapores específicos.
¿Qué tipo de conexión tiene?
Conexión bayoneta rápida y segura, con mecanismo intuitivo que asegura un ensamblaje correcto en máscaras compatibles.
¿Es cómodo para uso prolongado?
Sí, su diseño plano y ligero permite usarlo durante largas jornadas sin molestias ni fatiga.
¿Qué sustancias protege?
Partículas tóxicas, polvo, vapores de gases orgánicos y ácidos (OV/AG) y ozono por debajo del TLV de exposición.
